半導体用フォトレジストはシリコンウェハ等の表面に薄膜塗布後、フォトマスクを置いて紫外線照射をすることにより感光させます。主にCI回路やプリント基板等に使用されます。
①2500rpm/779.800nm
②5000rpm/558.600nm
対象装置:AFW-100BX
レジスト膜の反射率スペクトル
(回転数2,500rpm)
(回転数5,000rpm)
スピンコーター回転数と
膜厚の関係