プリント基板

レジスト膜

半導体用フォトレジストはシリコンウェハ等の表面に薄膜塗布後、フォトマスクを置いて紫外線照射をすることにより感光させます。主にCI回路やプリント基板等に使用されます。

 

  • 測定波長:400nm~1,000nm
  • レジスト液:富士薬品工業㈱ 
  • レジスト液型式:FPPR-200
  • レジスト液粘度:粘度8.5mPa・s
  • 測定膜:レジスト
  • 基板:Si
  • 屈折率:1.6
  • 回転数(rpm)/実測膜厚

      ①2500rpm/779.800nm

      ②5000rpm/558.600nm

 

対象装置:AFW-100BX

レジスト膜の反射率スペクトル

(回転数2,500rpm)

レジスト膜の反射率スペクトル

(回転数5,000rpm)

スピンコーター回転数と

膜厚の関係