プリント基板

半導体用フォトレジストはシリコンウェハ等の表面に薄膜塗布後、フォトマスクを置いて紫外線照射をすることにより感光させます。主にCI回路やプリント基板等に使用されます。

• 測定波長：400nm～1,000nm
• レジスト液：富士薬品工業㈱　
• レジスト液型式：FPPR-200
• レジスト液粘度：粘度8.5mPa・s
• 測定膜：レジスト
• 基板：Si
• 屈折率：1.6
• 回転数(rpm)/実測膜厚

　　　　　　①2500rpm／779.800nm

　　　　　　②5000rpm／558.600nm

対象装置：AFW-100BX