シリコンウェハ

シリコン酸化膜は絶縁材料として利用ができるため表面保護膜やゲート絶縁膜等、様々な用途に利用されています。

• 測定波長：380nm～1,000nm
• 測定膜：SiO2
• 基板：Si
• 屈折率：1.46
• 想定膜厚／実測膜厚

　　　　　①100nm   ／    94.500nm

　　　　　②500nm   ／  520.000nm

　　　　　③1,000nm／1001.091nm

対象装置　：　AFW-100W