シリコン酸化膜は絶縁材料として利用ができるため表面保護膜やゲート絶縁膜等、様々な用途に利用されています。
①100nm / 94.500nm
②500nm / 520.000nm
③1,000nm/1001.091nm
対象装置 : AFW-100W
SiO2膜の反射率スペクトル
(想定膜厚100nm)
(想定膜厚500nm)
(想定膜厚1,000nm)